同位素实验器皿清洗流程（Teflon器皿、溶样弹）

Teflon器皿、溶样弹的清洗流程

1. 用粘有酒精的无尘布擦去器皿上的字迹，用自来水反复冲洗器皿

内外；2. 在干净的塑料盆中放入适量的自来水和表面活性剂（洗洁精），搅

拌均匀起泡后将器皿放入其中，用无尘布逐个仔细擦洗器皿内外(特别注意器皿内部，用无尘布裹住手指逐个抠洗干净)后用自来水冲净表面活性剂，并再用纯净水冲洗器皿内外3-4次。

3. 放入用纯净水冲净的大烧杯中，加王水 (洗Teflon器皿专用王水和试剂均放在水槽旁的超净台上，洗溶量弹Bomb专用王水和试剂放在超净台下的储物柜中！切勿拿错！王水用量为超过器皿1-2 cm，擦拭干烧杯底部)，后置于电热板120℃浸煮24小时；

4. 将王水倒回王水专用瓶中，用纯净水冲洗器皿内外3-4次，放入用纯净水冲净的大烧杯中，加一次1:1 HNO3 (HNO3用量为超过器皿1-2cm，擦拭干烧杯底部)，120℃浸煮24小时；

5. 将1:1 HNO3倒回一次1:1 HNO3专用瓶中，用去纯净水冲洗器皿内外3-4次，放入用去纯净水冲净的大烧杯中，加二次1:1 HNO3 (HNO3用量为超过器皿1-2cm，擦拭干烧杯底部)，120℃浸煮24小时；

6. 将1:1 HNO3倒回二次1:1 HNO3专用瓶中，用去纯净水冲洗器皿内外3-4次，加去离子水MQH2O(MQH2O用量为超过器皿1-2cm，擦拭干烧杯底部)，120℃浸煮12小时。

7. 最后用去离子水冲洗器皿内外3-4次，置于超净台中风干（送风2级）备用。注：清洗流程中所指的“纯净水”均指国产的纯水装置过滤而成；“去离子水”指MiliPore纯水装置过滤而成，只能用于清洗器皿的最后一步和定溶及配制标液等；一次1:1 HNO3由反复使用5次的二次1:1 HNO3降级而得，用去离子水与GR级HNO3 按1:1比例配制；一次1:1 HNO3反复使用5次后降为步骤1之废酸，加入工业用碱进行中和处理；一次1:1 HCl由去离子水与GR级HCl 按1:1比例配制，此酸反复使用10次后降为步骤1废酸；二次1:1 HNO3由去离子水与GR级 HNO3按1:1比例配制，此酸反复使用5次后降为一次1:1 HNO3；二次1:1 HCl由去离子水与GR级 HCl按1:1比例配制，此酸反复使用5次后降为一次1:1 HCl。